陇南镀膜机厂家 高离化率 适合大批量生产

主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3. 蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、 基片温度

3、蒸发速率

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。

真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。

派瑞林parylene真空气相沉积设备又名派瑞林镀膜机、哌拉伦镀膜机，是用于电路板pcba、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、led/oled、传感器、微电子产品、电池、产品、书籍画卷等产品镀膜的设备，与传统的三防喷涂设备不同，它采用了一种特的化学气相沉积工艺（cvd），沉积过程过程主要有以下三个步骤：

     1. 真空环境，温度130℃条件下，固态派瑞林材料升华成气态。

     2. 真空环境，温度680℃条件下，将气态双分子裂解成为活性单体。

     3. 真空环境，常温下，气态单体在基体上生长聚合，形成致密的防护膜。

     的沉积过程决定了派瑞林parylene膜层厚度可以自由控制、膜层厚度整体比较均匀、膜层比较完整无薄弱点无针孔等特点，所以被涂敷后的产品膜层防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，防水、绝缘、耐盐雾、耐腐蚀的防护效果也更好，从而提高产品性能，延长适用寿命。