恩施真空计

VSA200 绝压开关
INFICON 真空开关设计用于准确而可靠地测量压力。这些坚固的电子开关可用于所有真空，包括压力联锁。开关有两种版本：绝压型（基准为真空）或差压型（基准为环境）。
Barocel 7045/7100
使用与7025相同的测量单元，Barocel 7045、7100仪表集成了加热器来保持仪表的固定温度。应用于有严重气体凝结可能导致问题的应用。可以加热到45℃(7045)或100℃(7100)的稳定温度时，仪表中的冷凝物不会危害到控制系统。
TIC仪表控制器(D39702000)提供全面的控制和显示多达6个兼容的Edwards真空计。下面是使用单个控制器运行的各种配置

特点
性能优越，优良的零稳定性和准确性
集成的双设定值增强控制
紧凑型到加热型，应有尽有
低拥有成本
零维护

Edwards WRG宽量空计 系列从大气压到 10-9 mbar 的全量程压力测量，并且提供线性输出。紧凑型的设计，所需空间和连接硬件均减少了一半，这对很多应用来说是非常重要的优势。WRG 具有很多新颖的特点，包括新的放电器、按钮校准、设**控制和全面的诊断功能。WRG 是经济的真空测量解决方案，支持模拟电压输出，nWRG支持RS232和RS485，可以与 Edwards TIC 真空计控制器一起使用也可以直接集成到系统控制中。

宽范围电源
两个设点 (可选)
RS232 接口 (可选)
VSR 1200到1x 10-4mbar 压阻/皮拉尼
应用实例
氮化硅在半导体行业中被用作隔离材料或外壳材料。它被放置于PECVD或LPCVD腔室中作气相沉积。在镀膜系统中要通过Load-Lock来保证工艺腔体中的真空维持在10-2到1mbar。
挑战
在Load-Lock抽真空过程中需要测量真空压力，以便晶片可以在尽可能短的时间被送入工艺腔体，从而启动镀膜过程。终处理过的晶片会再次回到Load-Lock，然后放气至大气压力后打门，取出晶片。因为操作的时间窗口很短，所以对压力读数的快速反应尤为重要。
解决方案
Load-Lock的压力由一个VSR真空规，它集成了压阻/皮拉尼复合传感器，能够高精度地测量1200到1x10-4mbar的真空压力。因而，打开工艺腔时的锁室压力以及放气到大气压力的精准时间点都可以被地测量。VSR快速的响应时间以及的压力读数使得腔门可以被快速及时地打开，从而使得一个非常短的Load-Lock循环周期成为可能。由于其出色的长期稳定性该真空规几乎*维护。
应用领域
分析仪器
真空炉
镀膜设备
低真空泵测试
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