承德镀膜机 膜层致密度高 镀层附着性能好

真空镀膜机为什么会越来越慢这种情况有两种可能

1、设备内部由于长时间镀膜导致有些脏东西在加热时放气，所以这种情况需要维护，即把内部屏蔽板拆下喷砂或脱膜，彻底清理。

2、由微小的渗漏，没有发现，尤其是各个传动部位密封，这种情况就是比较难查，如果没有检漏仪，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替换予以排除。也有人用针头酒精观察真空计的变化检查，但一般漏的不大时不好判断，至于你说的真空1.9的那个其实也并不高，还有就是漏率是按照你的设备体积以及单位时间的真空下降程度来算的不是按照真空值计算的，比如你的真空泵抽速好，抽气能力强就有可能克服微漏而使真空显示较高的数值。

镀膜机工艺在集成电路制造中的运用，镀膜机晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、电极管线（多晶硅、铝、铜及其合金）等多是选用CVD技能、PVCD技能、真空蒸腾金属技能、磁控溅射技能和射频溅射技能。可见气相堆积术制备集成电路的核心技能之一。

薄膜均匀性概念

1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2、化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

3、晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。