自贡镀膜机
发货地址:江苏省苏州昆山市
产品数量:100.00台
价格:面议
真空泵抽速33L/s
均匀性小于5%
冷阱温度-90℃
是否定制可定制
裂解区较高温度1200℃
产品别名真空镀膜机/多弧离子镀膜机/镀膜线/其他
类型真空镀/光学度/电镀/铭镀/其他
适用原料塑胶/金属/其他
镀种真空镀膜/镀镍系列/镀银系列/其他
适用范围五金/展架/玻璃/塑料/其他
功率不限制
规格不限制
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
真空镀膜机的工作原理如下:
在镀膜领域,镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此,当评价某薄膜样品的性能时,需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形,这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题:首先,不同次生长的样品,仪器的状态不同,以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次,真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得,非常耗时。增加了生产和检测的成本。
因此,提供一种多功能磁控溅射镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除**大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,**了高性能、大面积**光电器件和电路的制备。
真空镀膜工艺在信息存储范畴中的运用薄膜资料作为信息记载于存储介质,有其得天厚的优势:因为薄膜很薄能够疏忽涡流损耗;磁化回转较为敏捷;与膜面平行的双稳态状况简单保持等。为了更精细地记载与存储信息,必定要选用镀膜技能。
薄膜均匀性概念
1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2、化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。
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